氧化亚硅真空烧结炉详细介绍

目前，氧化亚硅(SiOx)是重要的电子和光学材料和锂离子电池负极添加剂。传统上生产氧化亚硅的方法是将单质硅和二氧化硅同摩尔比例混合，然后研磨成微米量级的粉末(颗粒越小混合越均匀，相互间接越紧密越有利于反应)，再在负压环境下加热到1250℃以上的温度进行歧化反应，温度越高越快，这样所形成的氧化亚硅以蒸气的形式溢出，并被带到压力和温度较低的地方并被冷凝成为氧化亚硅固体

我公司咸阳鸿峰窑炉设备有限公司较早进入这一领域的厂家，与该领域研究的前沿科研院所长期保持交流沟通，炉体的结构设计及工艺实现得到了很多专业人士的认可，西北工业大学及哈尔滨工业大学的教授都给予了很多改进意见，经过多年的研究创新，公司现研发的***真空升华设备具有设计合理，运行稳定，成品规格高，良***，节能环保等特点，可规模化应用于工业生产领域。

该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司开发的，专业应用于硅碳原材料一氧化硅制备的设备。

该设备主要应用于真空升华法制备氧化亚硅

该设备温控精度2度。

该设备温度控制1700度以内。

该设备升温速率快。

该设备可以可以在真空度下保持稳定

该设备产量大、能耗低、经过业内验证，做出的材料品质良好。

设备参数

1 名称 HF-RS-A（氧化亚硅专用升华炉）

2 炉型 卧室

3 设备组成 升华系统、加热系统、温控系统、真空系统、机械系统、冷却系统

4 升华系统由烧结区和收集区组成。

5 温控系统采用 PLC 触屏控制方式

6 加热系统该设备采用电阻丝加热

7 真空系统真空泵真空阀门及管路组成

8 机械部分区外壳采用 304 不锈钢制作

9 冷却系统 该设备配置两段的冷却系统

10 外形尺寸 1600mm*700mm*1600mm (终以设计尺寸为主)